WEKO3
アイテム
Modification of optoelectrical properties of ZnO based thin films using Ar plasma treatment and post annealing with Al capping layer
https://doi.org/10.32149/00002154
https://doi.org/10.32149/00002154090d80c5-d3e3-4afb-a326-d18b75bb59f8
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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博士論文全文 (5.7 MB)
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審査結果の要旨 (126.1 kB)
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論文内容の要旨 (301.3 kB)
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| Item type | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2021-03-18 | |||||||
| タイトル | ||||||||
| タイトル | Modification of optoelectrical properties of ZnO based thin films using Ar plasma treatment and post annealing with Al capping layer | |||||||
| 言語 | ||||||||
| 言語 | jpn | |||||||
| 資源タイプ | ||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_db06 | |||||||
| 資源タイプ | doctoral thesis | |||||||
| ID登録 | ||||||||
| ID登録 | 10.32149/00002154 | |||||||
| ID登録タイプ | JaLC | |||||||
| アクセス権 | ||||||||
| アクセス権 | open access | |||||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||||
| 著者 |
DAO, Thi Hoa
× DAO, Thi Hoa
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| 引用 | ||||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||||
| 内容記述 | 高知工科大学, 博士論文. | |||||||
| 書誌情報 | 発行日 2020-03 | |||||||
| 著者版フラグ | ||||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||||
| 出版者 | ||||||||
| 出版者 | 高知工科大学 | |||||||
| 出版者（ヨミ） | ||||||||
| こうちこうかだいがく | ||||||||
| アドバイザー | ||||||||
| 牧野,久雄 | ||||||||
| 学位名 | ||||||||
| 学位名 | 博士（学術） | |||||||
| 学位授与機関 | ||||||||
| 学位授与機関識別子Scheme | kakenhi | |||||||
| 学位授与機関識別子 | 26402 | |||||||
| 学位授与機関名 | 高知工科大学 | |||||||
| 学位授与年月日 | ||||||||
| 学位授与年月日 | 2020-03-18 | |||||||
| 学位授与番号 | ||||||||
| 学位授与番号 | 甲第363号 | |||||||
| 公開日（登録日） | ||||||||
| 日付 | 2021-03-18 | |||||||
