WEKO3
アイテム
イオン照射に伴う格子欠陥生成とスパッタリングに 起因する半導体材料の表面構造形成
https://doi.org/10.32149/0002000267
https://doi.org/10.32149/000200026761e238c2-dd98-4cc3-91d1-52441e31a98a
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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博士論文全文 (18.4 MB)
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論文内容の要旨 (194 KB)
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審査結果の要旨 (202 KB)
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| Item type | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||||
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| 公開日 | 2025-04-23 | |||||||
| タイトル | ||||||||
| タイトル | イオン照射に伴う格子欠陥生成とスパッタリングに 起因する半導体材料の表面構造形成 | |||||||
| 言語 | ja | |||||||
| 言語 | ||||||||
| 言語 | jpn | |||||||
| 資源タイプ | ||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_db06 | |||||||
| 資源タイプ | doctoral thesis | |||||||
| ID登録 | ||||||||
| ID登録 | 10.32149/0002000267 | |||||||
| ID登録タイプ | JaLC | |||||||
| アクセス権 | ||||||||
| アクセス権 | open access | |||||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||||
| 著者 |
大石, 脩人
× 大石, 脩人
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| bibliographic_information |
p. 1, 発行日 2025-03-18 |
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| その他の言語のタイトル | ||||||||
| その他のタイトル | Surface Structure Formation Resulting from Lattice Defect Generation and Sputtering via Ion Irradiation in Semiconductor Materials | |||||||
| 言語 | en | |||||||
| 出版者 | ||||||||
| 出版者 | 高知工科大学 | |||||||
| 言語 | ja | |||||||
| アドバイザー | ||||||||
| ja | ||||||||
| 新田 紀子 | ||||||||
| 学位名 | ||||||||
| 言語 | ja | |||||||
| 学位名 | 博士（工学） | |||||||
| item_4_degree_grantor_63 | ||||||||
| 言語 | ja | |||||||
| 学位授与機関名 | 高知工科大学 | |||||||
| 学位授与年月日 | ||||||||
| 学位授与年月日 | 2025-03-18 | |||||||
| dissertation_number | ||||||||
| 学位授与番号 | 甲第440号 | |||||||
