WEKO3
アイテム
低温イオン注入によって化合物半導体表面に形成されるセル状構造の成長機構の解明と構造制御
http://hdl.handle.net/10173/505
http://hdl.handle.net/10173/505ca63ea4c-5287-45c0-a585-d6981805f2fc
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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1066015505.pdf (3.9 MB)
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Item type | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||
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公開日 | 2010-06-03 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | 低温イオン注入によって化合物半導体表面に形成されるセル状構造の成長機構の解明と構造制御 | |||||
言語 | ||||||
言語 | jpn | |||||
資源タイプ | ||||||
資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_46ec | |||||
資源タイプ | thesis | |||||
著者 |
新田, 紀子
× 新田, 紀子 |
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内容記述 | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | 高知工科大学博士(工学) 平成16年3月22日授与 (甲第27号) | |||||
引用 | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | 高知工科大学, 博士論文. | |||||
書誌情報 | 発行日 2004-03 | |||||
著者版フラグ | ||||||
出版タイプ | AM | |||||
出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_ab4af688f83e57aa | |||||
アドバイザー | ||||||
値 | 谷脇,雅文 | |||||
学位授与番号 | ||||||
学位授与番号 | 26402甲第27号 |