WEKO3
アイテム
Applications of Highly Charged Ar Ion Beams to Ion Beam Lithography
http://hdl.handle.net/10173/131
http://hdl.handle.net/10173/131f78357b5-54be-4f77-8721-85afd263bee9
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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72-75.pdf (574.1 kB)
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Item type | 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) | |||||
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公開日 | 2007-08-21 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | Applications of Highly Charged Ar Ion Beams to Ion Beam Lithography | |||||
言語 | ||||||
言語 | eng | |||||
資源タイプ | ||||||
資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||
著者 |
百田, 佐多生
× 百田, 佐多生× 野尻, 洋一× 浜川, 恒圭× 濱口, 顕典 |
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書誌情報 |
高知工科大学紀要 巻 2, 号 1, p. 72-75, 発行日 2005-03-31 |
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ISSN | ||||||
収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
収録物識別子 | 1348-4842 | |||||
書誌レコードID | ||||||
収録物識別子タイプ | NCID | |||||
収録物識別子 | AA11954573 | |||||
著者版フラグ | ||||||
出版タイプ | VoR | |||||
出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 |