WEKO3
アイテム
Origin and Suppression of Channel-Shortening Effect in Self-Aligned Polycrystalline Indium Oxide Thin-film Transistors with Boron-implanted Source and Drain Regions.
https://doi.org/10.32149/0002000377
https://doi.org/10.32149/0002000377bb3fb694-0981-4911-8d60-9762100bc362
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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博士論文全文 (6.4 MB)
Download is available from 2027/3/18.
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論文内容の要旨 (404 KB)
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審査結果の要旨 (139 KB)
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| アイテムタイプ | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2026-04-28 | |||||||
| タイトル | ||||||||
| タイトル | Origin and Suppression of Channel-Shortening Effect in Self-Aligned Polycrystalline Indium Oxide Thin-film Transistors with Boron-implanted Source and Drain Regions. | |||||||
| 言語 | en | |||||||
| 言語 | ||||||||
| 言語 | eng | |||||||
| 資源タイプ | ||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_db06 | |||||||
| 資源タイプ | doctoral thesis | |||||||
| ID登録 | ||||||||
| ID登録 | 10.32149/0002000377 | |||||||
| ID登録タイプ | JaLC | |||||||
| アクセス権 | ||||||||
| アクセス権 | embargoed access | |||||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_f1cf | |||||||
| 著者 |
Mir Mutakabbir Alom
× Mir Mutakabbir Alom
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| 書誌情報 |
p. 1, 発行日 2026-03-18 |
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| その他の言語のタイトル | ||||||||
| その他のタイトル | ホウ素イオン注入を用いた自己整合型多結晶酸化インジウム薄膜トランジスタにおける実効チャネル長縮小メカニズムと対策 | |||||||
| 言語 | ja | |||||||
| 出版者 | ||||||||
| 出版者 | 高知工科大学 | |||||||
| 言語 | ja | |||||||
| アドバイザー | ||||||||
| en | ||||||||
| Mamoru Furuta | ||||||||
| 学位名 | ||||||||
| 学位名 | 博士（工学） | |||||||
| 言語 | ja | |||||||
| 学位授与機関 | ||||||||
| 学位授与機関名 | 高知工科大学 | |||||||
| 言語 | ja | |||||||
| 学位授与年月日 | ||||||||
| 学位授与年月日 | 2026-03-18 | |||||||
| 学位授与番号 | ||||||||
| 学位授与番号 | 甲第449号 | |||||||
