WEKO3
アイテム
半導体薄膜形成のためのリモートラインソースプラズマ CVD装置の研究開発及びそれに基づく起業実践
http://hdl.handle.net/10173/213
http://hdl.handle.net/10173/2135f9f6908-bd10-4300-97f9-4684c4c5630c
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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1036020213.pdf (4.6 MB)
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Item type | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||||
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公開日 | 2007-08-21 | |||||||
タイトル | ||||||||
タイトル | 半導体薄膜形成のためのリモートラインソースプラズマ CVD装置の研究開発及びそれに基づく起業実践 | |||||||
言語 | ||||||||
言語 | jpn | |||||||
資源タイプ | ||||||||
資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_46ec | |||||||
資源タイプ | thesis | |||||||
著者 |
森田, 達夫
× 森田, 達夫
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内容記述 | ||||||||
内容記述タイプ | Other | |||||||
内容記述 | 2002-10-04 WEB公開 | |||||||
内容記述 | ||||||||
内容記述タイプ | Other | |||||||
内容記述 | 高知工科大学博士(工学) 平成14年3月20日授与 (甲第10号) | |||||||
引用 | ||||||||
内容記述タイプ | Other | |||||||
内容記述 | 高知工科大学, 博士論文. | |||||||
書誌情報 | 発行日 2002-03 | |||||||
著者版フラグ | ||||||||
出版タイプ | AM | |||||||
出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_ab4af688f83e57aa | |||||||
その他のタイトル | ||||||||
その他のタイトル | Development of Remote Line Source Plasma CVD Apparatus for Semiconductor Thin Films and Creation of New Business by Using Related Technologies | |||||||
アドバイザー | ||||||||
加納,剛太 | ||||||||
学位授与番号 | ||||||||
学位授与番号 | 26402甲第10号 |