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  1. 学位論文(博士)

半導体薄膜形成のためのリモートラインソースプラズマ CVD装置の研究開発及びそれに基づく起業実践

http://hdl.handle.net/10173/213
http://hdl.handle.net/10173/213
5f9f6908-bd10-4300-97f9-4684c4c5630c
名前 / ファイル ライセンス アクション
1036020213.pdf 1036020213.pdf (4.6 MB)
Item type 学位論文 / Thesis or Dissertation(1)
公開日 2007-08-21
タイトル
タイトル 半導体薄膜形成のためのリモートラインソースプラズマ CVD装置の研究開発及びそれに基づく起業実践
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_46ec
資源タイプ thesis
著者 森田, 達夫

× 森田, 達夫

森田, 達夫

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内容記述
内容記述タイプ Other
内容記述 2002-10-04 WEB公開
内容記述
内容記述タイプ Other
内容記述 高知工科大学博士(工学) 平成14年3月20日授与 (甲第10号)
引用
内容記述タイプ Other
内容記述 高知工科大学, 博士論文.
書誌情報 発行日 2002-03
著者版フラグ
出版タイプ AM
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_ab4af688f83e57aa
その他のタイトル
その他のタイトル Development of Remote Line Source Plasma CVD Apparatus for Semiconductor Thin Films and Creation of New Business by Using Related Technologies
アドバイザー
加納,剛太
学位授与番号
学位授与番号 26402甲第10号
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Ver.1 2023-05-15 13:36:39.233950
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