WEKO3
アイテム
ミストを利用した薄膜作製技術「ミストCVD法」の開発と「a-IGZO/AlOx 構造を有する酸化物 TFTの大気圧形成」
http://hdl.handle.net/10173/907
http://hdl.handle.net/10173/9070d811449-db74-4983-b8dd-f1fefde9e173
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
|---|---|---|
rb9_037_053.pdf (4.6 MB)
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| Item type | 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2012-10-17 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | ミストを利用した薄膜作製技術「ミストCVD法」の開発と「a-IGZO/AlOx 構造を有する酸化物 TFTの大気圧形成」 | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| 資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||
| 著者 |
川原村, 敏幸
× 川原村, 敏幸× 王, 大鵬× 古田, 守 |
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| 著者別名 | ||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||
| 識別子 | 4291 | |||||
| 姓名 | Kawaharamura, Toshiyuki | |||||
| 著者別名 | ||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||
| 識別子 | 4292 | |||||
| 姓名 | Wang, Dapeng | |||||
| 著者別名 | ||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||
| 識別子 | 4293 | |||||
| 姓名 | Furuta, Mamoru | |||||
| 書誌情報 |
高知工科大学紀要 巻 9, 号 1, p. 37-53, 発行日 2012-07-31 |
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| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
| 収録物識別子 | 1348-4842 | |||||
| 書誌レコードID | ||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||
| 収録物識別子 | AA11954573 | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
| その他のタイトル | ||||||
| その他のタイトル | Development of the Novel Thin Film Fabrication Technology using Mist,“Mist CVD”and Oxide TFT with a-IGZO/AlOx Stack Grown under Atmosphere by the Mist CVD | |||||
| 出版者 | ||||||
| 出版者 | 高知工科大学 | |||||
