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  1. 紀要
  2. 第09巻

ミストを利用した薄膜作製技術「ミストCVD法」の開発と「a-IGZO/AlOx 構造を有する酸化物 TFTの大気圧形成」

http://hdl.handle.net/10173/907
http://hdl.handle.net/10173/907
0d811449-db74-4983-b8dd-f1fefde9e173
名前 / ファイル ライセンス アクション
rb9_037_053.pdf rb9_037_053.pdf (4.6 MB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2012-10-17
タイトル
タイトル ミストを利用した薄膜作製技術「ミストCVD法」の開発と「a-IGZO/AlOx 構造を有する酸化物 TFTの大気圧形成」
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
著者 川原村, 敏幸

× 川原村, 敏幸

川原村, 敏幸

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王, 大鵬

× 王, 大鵬

王, 大鵬

Search repository
古田, 守

× 古田, 守

古田, 守

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著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 4291
姓名 Kawaharamura, Toshiyuki
著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 4292
姓名 Wang, Dapeng
著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 4293
姓名 Furuta, Mamoru
書誌情報 高知工科大学紀要

巻 9, 号 1, p. 37-53, 発行日 2012-07-31
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 1348-4842
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA11954573
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
その他のタイトル
その他のタイトル Development of the Novel Thin Film Fabrication Technology using Mist,“Mist CVD”and Oxide TFT with a-IGZO/AlOx Stack Grown under Atmosphere by the Mist CVD
出版者
出版者 高知工科大学
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Ver.1 2023-05-15 13:04:44.522256
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